CVD-метод. Химическая парофазная металлизация

M.: Наука, 2000. — 496 с.: ил.Книга посвящена изложению теории и практики CVD-метода (Chemical Vapor Deposition) - осаждению металлических пленок, покрытий, вискеров и высокодисперсных частиц из паровой (газовой) фазы летучих металлсодержащих соединений - карбонилов металлов, бис-π-циклопентадиенильных соединений (металлоцены), алкилов металлов, β-дикетонатов металлов и галогенидов металлов.
Описаны принципы выбора исходных веществ для CVD-металлизации в вакууме, в несущем газе, в плазме газового разряда, при электронно-дуговом методе и при помощи лазера.
Изложен материал по получению функциональных металлических пленок, покрытий и вискеров использующихся в радиоэлектронике, электронной технике, машиностроении, авиации, космонавтике и других отраслях науки и техники.
Для широкого круга лиц, интересующихся вопросами получения металлов в виде различных модификаций, химиков, работающих с металлоорганическими соединениями и специализирующихся на методах их термической диссоциации.